| रन की लंबाई | बिना पका हुआ: 50000 से 80,000 छापें; बेक्ड: 100000 से अधिक इंप्रेशन |
|---|---|
| सब्सट्रेट | इलेक्ट्रो रासायनिक रूप से दानेदार और एनोडाइज्ड लिथोग्राफिक एल्यूमीनियम |
| प्लेट प्रकार | सकारात्मक पीएस प्लेट / पारंपरिक एनालॉग प्लेट |
| एक्सपोजर एनर्जी | 80 - 180 एमजे/सेमी² |
| संकल्प | 2 - 98% एलपीआई 200 |
| थाह लेना | 0.15, 0.20, 0.25, 0.30, 0.40 (मिमी) |
|---|---|
| अधिकतम लघु अनाज चौड़ाई | अधिकतम चौड़ाई 1280 मिमी |
| आवेदन | उच्च गुणवत्ता वाणिज्यिक और समाचार पत्र मुद्रण |
| लंबाई के साथ भागो | बिना पका हुआ: 80000 से 100,000 छापें; बेक्ड: 100000 से अधिक इंप्रेशन |
| एक्सपोजर एनर्जी | 50 - 70 एमजे/सेमी² |
| दौड़ की लंबाई | 200,000 बिना पके हुए इंप्रेशन; बिना पके यूवी इंक के साथ 70,000 इंप्रेशन; 1,000,000 इंप्रेशन बेक किया |
|---|---|
| एक्सपोजर एनर्जी | 50-65uj/cm² (प्लेट सेटर और विकासशील स्थिति पर आधारित) |
| वर्णक्रमीय संवेदनशीलता | 405 एनएम |
| संकल्प | 1-99% @ 200 एलपीआई और 20 यूएफएम |
| विकासशील समय | 20 ± 3 सेकंड |
| लंबाई के साथ भागो | 100,000 छापों तक साधारण स्याही, 50,000 छापों तक यूवी स्याही |
|---|---|
| कलई करना | दो-परत प्रणाली, आईआर संवेदनशील, सकारात्मक अभिनय |
| एक्सपोजर एनर्जी | 110 - 130 mJ/वर्ग सेंटीमीटर |
| संकल्प | 200 एलपीआई पर 1-99% |
| थाह लेना | 0.15, 0.20, 0.25, 0.30, 0.40 (मिमी) |
| वर्णक्रमीय संवेदनशीलता | 405 एनएम |
|---|---|
| एक्सपोजर एनर्जी | 50-65 उज/वर्ग सेंटीमीटर |
| संकल्प | 200 एलपीआई और 20 यूएफएम पर 1-99%। |
| रन-लेंथ (बिना पका हुआ) | 200, 000 इंप्रेशन अनबेकड |
| रन-लेंथ (UV इंक अनबेकड) | यूवी इंक अनबेकड के साथ 70, 000 इंप्रेशन |
| संसाधन गति | 0.8-1.2 मीटर/मिनट |
|---|---|
| वर्णक्रमीय संवेदनशीलता | 400-410 एनएम |
| रन की लंबाई | बिना बेक किया हुआ: 80,000 से 100,000 इंप्रेशन बेक किया हुआ: 100,000 से ज़्यादा इंप्रेशन |
| प्लेट सेटर्स | लुशर, बेसिसप्रिंट, क्रॉन, इकोोग्राफ़िक्स |
| एक्सपोजर एनर्जी | 50-70 एमजे/सेमी² |
| वर्णक्रमीय संवेदनशीलता | 400-410 एनएम |
|---|---|
| दौड़ की लंबाई | 100, 000 इंप्रेशन |
| अनुशंसित स्क्रीन विधि | 1-99 @200 एलपीआई एएम / 20यू एफएम और मिश्रण |
| प्रसंस्करण | प्रसंस्करण के बिना, सीधे प्रेस पर |
| शेल्फ जीवन | अनुशंसित के तहत 12 महीने |
| रन की लंबाई (साधारण स्याही) | 100,000 से 200,000 इंप्रेशन |
|---|---|
| रन की लंबाई (यूवी इंक) | 50,000 से 100,000 इंप्रेशन |
| संकल्प | 1-99% @ 200LPI |
| अधिकतम कम अनाज की चौड़ाई | अधिकतम चौड़ाई 1280 मिमी |
| एक्सपोजर एनर्जी | 110-130 mj/ वर्ग सेंटीमीटर |
| रन की लंबाई (इंप्रेशन) | बिना पका हुआ: 200,000 छापें; बेक्ड: 500,000 इंप्रेशन (छवि रिज़ॉल्यूशन, प्रेस, प्रेस रसायन, स्याही और |
|---|---|
| संकल्प | 150lpi (2-98%), under1800dpi, 25um लाइन का उत्पादन किया जा सकता है। |
| प्लेट प्रकार | कम रसायन शास्त्र वायलेट प्लेट, नकारात्मक मुद्रण |
| सब्सट्रेट | इलेक्ट्रो रासायनिक रूप से दानेदार और एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम |
| अधिकतम कम अनाज की चौड़ाई | अधिकतम चौड़ाई 1320 मिमी |
| कलई करना | दो-परत प्रणाली, आईआर संवेदनशील, सकारात्मक अभिनय |
|---|---|
| थाह लेना | 0.15,0.20, 0.25,0.30, 0.40 (मिमी) |
| रन की लंबाई | साधारण इंक: 100,000 से 200,000 इंप्रेशन यूवी इंक: 50,000 से 100,000 इंप्रेशन |
| संकल्प | 200 एलपीआई पर 1-99% |
| एक्सपोजर एनर्जी | 110 - 130 एमजे/सेमी² |
