| रन की लंबाई | बिना पका हुआ: 50000 से 80,000 छापें; बेक्ड: 100000 से अधिक इंप्रेशन |
|---|---|
| सब्सट्रेट | इलेक्ट्रो रासायनिक रूप से दानेदार और एनोडाइज्ड लिथोग्राफिक एल्यूमीनियम |
| प्लेट प्रकार | सकारात्मक पीएस प्लेट / पारंपरिक एनालॉग प्लेट |
| एक्सपोजर एनर्जी | 80 - 180 एमजे/सेमी² |
| संकल्प | 2 - 98% एलपीआई 200 |
| एक्सपोजर एनर्जी | 120 - 150mj/वर्ग सेंटीमीटर |
|---|---|
| गेज | 0.15, 0.20, 0.24, 0.30, 0.40 (मिमी) |
| संकल्प | 1-99% @400Lpi / 10u FM |
| रन-लेंथ (बिना पका हुआ) | 400, 000 इंप्रेशन |
| रन-लेंथ (बेक्ड) | 1, 000, 000 प्लस इंप्रेशन |
| रन की लंबाई (बिना पका हुआ) | 50,000 से 100,000 इंप्रेशन |
|---|---|
| रन की लंबाई (बेक्ड) | 100,000 से अधिक इंप्रेशन |
| वर्णक्रमीय संवेदनशीलता | 320 - 405 एनएम |
| संकल्प | 1-99% @ 300LPI |
| प्रकाश की शक्ति | 3,000 - 5,000 डब्ल्यू |
| थाली का रंग | हरा |
|---|---|
| मोटाई | 0.20 मिमी, 0.25 मिमी, 0.30 मिमी, 0.40 मिमी |
| प्लेट प्रकार | नकारात्मक डिजिटल वायलेट CTP प्लेट |
| वर्णक्रमीय संवेदनशीलता | 405 एनएम |
| आवेदन | अखबार की छपाई |
| एक्सपोजर एनर्जी | 50-60uj/ स्क्वायर सेंटीमीटर |
|---|---|
| रन की लंबाई (इंप्रेशन) | बिना पका हुआ: 200,000 छापें; बेक्ड: 500,000 इंप्रेशन (छवि रिज़ॉल्यूशन, प्रेस, प्रेस रसायन, स्याही और |
| संकल्प | 150lpi (2-98%), under1800dpi, 25um लाइन का उत्पादन किया जा सकता है। |
| प्लेट प्रकार | कम रसायन शास्त्र वायलेट प्लेट, नकारात्मक मुद्रण |
| सब्सट्रेट | इलेक्ट्रो रासायनिक रूप से दानेदार और एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम |
| रन की लंबाई (इंप्रेशन) | बिना पका हुआ: 200,000 छापें; बेक्ड: 500,000 इंप्रेशन (छवि रिज़ॉल्यूशन, प्रेस, प्रेस रसायन, स्याही और |
|---|---|
| संकल्प | 150lpi (2-98%), under1800dpi, 25um लाइन का उत्पादन किया जा सकता है। |
| प्लेट प्रकार | कम रसायन शास्त्र वायलेट प्लेट, नकारात्मक मुद्रण |
| सब्सट्रेट | इलेक्ट्रो रासायनिक रूप से दानेदार और एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम |
| अधिकतम कम अनाज की चौड़ाई | अधिकतम चौड़ाई 1320 मिमी |
| गेज | 0.15-0.4 मिमी |
|---|---|
| रंग | स्लेटी |
| चलने की लंबाई | 120000 इंप्रेशन |
| आकार | चौड़ाई में 1280 से अधिक नहीं |
| विशेषता | गैर-प्रक्रिया, गैर रसायन, प्रक्रिया-मुक्त प्लेट |
| प्रोडक्ट का नाम | नेगेटिव डीओपी प्रोसेसलेस थर्मल सीटीपी प्लेट |
|---|---|
| प्लेट प्रकार | गैर-पृथक थर्मल-नकारात्मक प्रकार |
| मोटाई | 0.15 मिमी / 0.30 मिमी |
| कम ऊर्जा इमेजिंग | 130 ~ 150 एमजे / सेमी² |
| स्टार्टअप का पेपर नंबर | <50 चादरें |
| रन की लंबाई (इंप्रेशन) | बिना पका हुआ: 200,000 छापें; बेक्ड: 500,000 इंप्रेशन (छवि रिज़ॉल्यूशन, प्रेस, प्रेस रसायन, स्याही और |
|---|---|
| संकल्प | 150lpi (2-98%), under1800dpi, 25um लाइन का उत्पादन किया जा सकता है। |
| प्लेट प्रकार | कम रसायन शास्त्र वायलेट प्लेट, नकारात्मक मुद्रण |
| सब्सट्रेट | इलेक्ट्रो रासायनिक रूप से दानेदार और एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम |
| अधिकतम कम अनाज की चौड़ाई | अधिकतम चौड़ाई 1320 मिमी |
| दौड़ की लंबाई | 100,000 इंप्रेशन |
|---|---|
| स्पेक्ट्रम का दायरा | 800 - 850 एनएम |
| कम ऊर्जा इमेजिंग | 130 ~ 150 एमजे / सेमी² |
| अनुशंसित स्क्रीन विधि | 1~99 @200Lpi AM/20u FM और मिश्रण |
| स्टार्ट-अप का पेपर नंबर | <50 चादरें |
