प्लेट वर्गीकरण | यूवी सीटीपी प्लेट |
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संकल्प | 1-99% @200 एलपीआई और 20 यूएफएम |
रन-लंबाई | 1,000,000 इंप्रेशन पके हुए |
एक्सपोजर एनर्जी | 50-65 उज/वर्ग सेंटीमीटर |
कोटिंग का रंग | हल्का नीला रंग |
प्लेट वर्गीकरण | सीटीसीपी प्रिंटिंग प्लेट |
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एक्सपोजर एनर्जी | 50-65uj/वर्ग सेंटीमीटर |
संकल्प | 1-99% @200 एलपीआई और 20 यूएफएम |
थाह लेना | 0.15, 0.20, 0.25, 0.30, 0.40 मिमी |
रन-लंबाई | 1,000,000 इंप्रेशन पके हुए |
उत्पाद का नाम | प्रक्रिया रहित सीटीपी प्रिंटिंग प्लेट |
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आवेदन | उच्च ग्रेड वाणिज्यिक और समाचार पत्र मुद्रण |
सामग्री | इलेक्ट्रोलाइट ग्रेनिंग और एनोडाइज्ड AL सब्सट्रेट |
मोटाई | 0.15 मिमी / 0.30 मिमी |
स्पेक्ट्रम का दायरा | 800-850 एनएम |
सामग्री | एल्यूमीनियम |
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प्रकार | सीटीपी प्लेट |
शैली | सकारात्मक |
परिवहन पैकेज | निर्यात मानक पैकेजिंग |
विनिर्देश | गेजः 0.15 मिमी; 0.30 मिमी |
प्लेट प्रकार | सीटीपी प्रिंटिंग प्लेट |
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आवेदन | वाणिज्यिक, समाचार पत्र और पैकेजिंग मुद्रण |
एक्सपोजर एनर्जी | 120 - 150 एमजी/वर्ग सेंटीमीटर |
रन की लंबाई (बिना पका हुआ) | 400, 000 इंप्रेशन |
रन की लंबाई (यूवी इंक) | 100, 000 इंप्रेशन |
Classification | CTP Printing Plates |
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Product name | Double Layer Thermal CTP Plate For Printing |
Plate Type | Positive Working Thermal CTP Plate(Double Layer) |
Application | High Grade Offset Commercial, Packaging or Newspaper |
Plate Thickness | 0.15, 0.20, 0.25, 0.30, 0.40 mm |
थाली का रंग | काला |
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मोटाई | 1.14/1.7/2.84 मिमी |
प्लेट प्रकार | विलायक डिजिटल फ्लेक्सो प्लेट |
वर्णक्रमीय संवेदनशीलता | 830 एनएम |
आवेदन | फ्लेक्सो प्रिंटिंग |
प्लेट प्रकार | डिजिटल विलायक फ्लेक्सो प्लेट |
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मोटाई | 1.14/1.70/2.28/2.84/3.95 मिमी |
कठोरता | 75-38, मोटाई से भिन्न होता है |
छवि प्रजनन | 1-99%, 60 लाइन/सेमी |
आवेदन | फ्लेक्सोबल पैकेज, लेबल और टैग, डिब्बों |
प्लेट प्रकार | सकारात्मक पीएस प्लेट |
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संकल्प | 1-99% @ 300LPI |
रन की लंबाई (बिना पका हुआ) | 50,000 से 100,000 इंप्रेशन |
रन की लंबाई (बेक्ड) | 100,000 से अधिक इंप्रेशन |
गेज | 0.15 मिमी, 0.20 मिमी, 0.25 मिमी, 0.30 मिमी और 0.40 मिमी |
Plate Type | Violet plate |
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Run Length | 100,000 impressions unbaked. Actual run length may vary according to press/paper/ink conditions. |
Exposure Energy | 70-90uj/cm2 (based on platesetter and developing condition) |
Resolution | 2%-98% @150lpi (depending on capability of imaging device) |
सब्सट्रेट | विद्युत रासायनिक रूप से दानेदार और एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम |